Экспериментальное исследование стеклянной линейной линзы Френеля

На рис. 3.1 изображена ЛЛФ, выполненная из стекла, методом проката стекла без дополнительной механической обработки рабо­чей поверхности. Поверхность рабочих граней имеет явно выражен­ную неровность в виде «кованного» стекла, что приводит к доста­точно сильной диффузной составляющей прошедшего излучения и увеличению фокальной полосы. Суммарное светопропускание таких линз в пределах 50 — 60 %.

На рис. 3.6 показано изменение мощности на фокальной поло­се при поперечной и продольной угловых дефокусировках для фото­электрического модуля.

Схема эксперимента по исследованию угловых дефокусиро­вок демонстрируется на рис. 3.7. Модуль с небольшой по длине линзой (0,5 м) был установлен на поворотном стенде экваториаль­ной схемы слежения (ось вращения направлена на полюс Мира), на котором имитировались угловые отклонения. Продольные угловые отклонения обозначались а, поперечные, имитирующие отклоне­ния по склонению, обозначены углом у. Эксперимент прово­дился следующим образом: первоначально модуль устанавливался

Прицельное

положение

Рис. 3.7. Схема эксперимента по определению влияния угловых продольных и поперечных дефокусировок на положение фокальной полосы и распределения концентрации

в «прицельное положение» на Солнце, снимались с помощью скани­рующего датчика распределения освещённости в фокальной плоско­сти, затем задавались поперечные отклонения Ду = 15°, 30°, 35°, при каждом значении Ду путём поворота вокруг оси вращения снима­лись показания для продольной дефокусировки а = 10°, 20°, 30°.

Измерения освещенности в фокусе проводились фотоэлектри­ческим датчиком размером 1 х 1 см, шаг измерения 1 см, определя­лась концентрация в направлении AF’. Графики концентрации пред­ставлены на рис. 3.8.

При продольных отклонениях а = 10°, 20°, 30° уход вдоль фо­кальной линии AF составил соответственно: 90,180,290 мм.

Для углов Лу = 15°, 30°, 35° уход в сторону от главной фокаль­ной линии AF’ составил соответственно 134, 290, 350 мм.

Максимальная концентрация излучения 4,5 — 5Х.