Для получения многослойных покрытий из пленок малой толщи­ны наиболее удобен метод нанесения материалов испарением их в высоком вакууме. Преимущество этого метода — нанесение всех слоев покрытия за один цикл откачки вакуумной системы и точ­ный контроль толщины каждого слоя в процессе нанесения. Однако этим методом можно создавать равпомерные и однородные покрытия на коллекторных пластинах сравнительно небольшого размера, зависящего от размеров используемой вакуумной ка­меры. Для нанесения многослойных покрытий на большие по­верхности разработана специальная вакуумная установка [143, 152] с фотометрическим контролем толщины каждого слоя в про­цессе нанесения.

Для спектральных измерений коэффициента пропускания стек­лянных пластин с нанесенными пленочными слоями в области 0,22— —1,0 мкм использовали спектрофотометр СФ-4, а с помощью прис­тавок ПЗО-1 и ПДО-1 устанавливали коэффициенты зеркального

и диффузного отражения от коллекторных пластин с селектив­ными покрытиями. Спектрофотометром СФ-4 с приставкой ПЗО-1 определяли зависимость коэффициента зеркального отражения от угла падения света в диапазоне 11—88°. Для измерений коэффи­циента зеркального отражения в инфракрасной области спектра 1—25 мкм применялся спектрофотометр ИКС-14 с приставкой, аналогичной описанной в работе [153].

Толщину пленок измеряли на микроинтерферометре МИИ-11 (минимальная определяемая толщина 50 А, точность ±20 А). Ступеньку для измерений получали затенением с помощью слюды или алюминиевой фольги толщиной 5—10 мкм части поверхности контрольных стеклянных пластин, на которые одновременно с коллекторными пластинами наносили покрытия. Контрастность интерференционной картины увеличивалась при нанесении на пленку и стекло в районе ступеньки полупрозрачного слоя из алюминия или серебра.